СРАВНИТЕЛЬНЫЙ АНАЛИЗ РАЗЛИЧНЫХ ИСТОЧНИКОВ ПЛАЗМЫ ДЛЯ ЦЕЛЕЙ РЕАКТИВНОГО НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ И ДИФФУЗИОННОГО НАСЫЩЕНИЯ МЕТАЛЛОВ

Выполнены зондовые измерения параметров различных источников технологической плазмы, 
используемых в вакуум-плазменных технологиях при реактивном нанесении покрытий и диф-
фузионном насыщении металлов. Проведен сравнительный анализ плазменных источников 
магнетронного и вакуум-дугового разрядов, используемых в процессах реактивного нанесе-
ния функциональных покрытий, и плазменных источников тлеющего разряда и двойного ду-
гового разряда, используемых для очистки поверхности и ионного насыщения. Рассмотрены 
особенности применения различных плазменных источников для повышения стабильности и 
управляемости процессов напыления и получения качественных покрытий.
Ключевые слова: вакуум-плазменные технологии, реактивное нанесение покрытий, ионно-
плазменное диффузионное модифицирование поверхности металлов.
ПОРІВНЯЛЬНИЙ АНАЛІЗ РІЗНИХ ДЖЕРЕЛ ПЛАЗМИ
ДЛЯ ЦІЛЕЙ РЕАКТИВНОГО НАНЕСЕННЯ ПОКРИТТІВ 
І ДИФУЗІЙНОГО НАСИЧЕННЯ МЕТАЛІВ 
О. В. Сагалович, В. В. Сагалович, С. В. Дудін, В. І. Фаренік
Виконано зондові вимірювання параметрів різних джерел технологічної плазми, що викори-
стовуються в вакуум-плазмових технологіях при реактивному нанесенні покриттів і дифузій-
ному насиченні металів. Проведено порівняльний аналіз плазмових джерел магнетронного й 
вакуум-дугового розрядів, що використовуються в процесах реактивного нанесення функці-
ональних покриттів, та плазмових джерел тліючого розряду й подвійного дугового розряду, 
що використовуються для очищення поверхні і іонного насичення. Розглянуто особливості 
застосування різних плазмових джерел для підвищення стабільності і керованості процесів 
напилення і отримання якісних покриттів.
Ключові слова: вакуум-плазмові технології, реактивне нанесення покриттів, іонно-плазмове 
дифузійне модифікування поверхні металів.
COMPARATIVE ANALYSIS OF DIFFERENT PLASMA
SOURCES FOR REACTIVE DEPOSITION OF COATINGS
AND DIFFUSION SATURATION OF METALS
A. V. Sagalovych, V. V. Sagalovych, S. V. Dudіn, V. I. Farenik 
Probe measurements of parameters of different technological plasma sources used in vacuum-plas-
ma technologies of reactive deposition of coatings and diffusion saturation of metals have been 
performed. A comparative analysis has been done of the magnetron plasma source and vacuum-arc 
discharge used during reactive deposition of functional coatings, as well as plasma of glow discharge 
and dual arc used to clean the surface and ion saturation. Peculiarities of application of different plas-
ma sources for improvement of stability and controllability of deposition of high-quality coatings are 
discussed.
Keywords: vacuum-plasma technologies, reactive deposition of coatings, ion-plasma diffusion mo-
dification of metal surface.